Laserinduzierte Zerstörung in oxidischen Schichtsystemen für den UV Bereich

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Im besonderen Fall der gütegeschalteten UVLaserstrahlung (l=266nm & l=355nm) ist der Vorgang der defektindizierten Zerstörung im Detail untersucht worden. Hauptsächlich anhand eines verfeinerten Messverfahrens nach dem ISO Standard 21254-2 wurden so SiO2, HfO2 und Al2O3 als oxidische Beschichtungsmaterialien analysiert. Im Zentrum standen dabei die in den Schichten vorhandenen Defektensembles und ihr Ansprechverhalten auf die Laserstrahlung. Ebenfalls spielt in UV-Anwendungen die Zweiphotonenabsorption (2PA) eine große Rolle. Auf Basis des speziellen LZH-IBS-Prozesses (Ion Beam Sputtering) konnten konfektionierte Einzelschichten hergestellt werden, die eine Untersuchung des Einflusses der 2PA in Resonanz ermöglichte. Im letzten Schritt wurde dann die Entwicklung der prozessbedingten Defektensembles unter UV-Bestrahlung geprüft.